二氟化氙（XeF₂），又称二氟代氙，分子量为169.30，在电子工业中，XeF₂常被用作硅的蚀刻气体，由于XeF₂和硅的化学反应是自发反应，XeF2对硅的腐蚀工艺具有非常高的选择性，在XeF₂对硅进行腐蚀过程中，XeF₂气体通过自由扩散到硅衬底表面，并与最外层硅原子发生化学反应生成气态Xe和气态SiF₄，从而实现对硅的腐蚀。

产品指标

产品用途：

在电子工业中，XeF₂常被用作硅的蚀刻气体。此外，二氟化氙是一种选择性很好的氟化试剂，在无机氟化物制备及有机合成中有广泛的应用，但其只有在气相和非水溶液中才具有氟化性质，在水溶液中只能起氧化剂的作用。

产品贮存：

二氟化氙储存于阴凉、通风的库房，应与氧化剂、食用化学品、碱金属分开存放，远离火种、热源。